甜妻不撒娇网易新闻报道，中国监管机构已经要求电信运营商在 2027 年前逐步淘汰美国芯片，这一政策的实施将对英特尔和 AMD 等美国半导体巨头造成重大打击。

　　当前，一些基础通信设备多使用 28 纳米甚至更成熟制程的芯片；对于高性能的 5G 基站、核心路由器等关键设备，可能会用到 7 纳米乃至更先进制程的芯片，以满足高速数据处理和低功耗要求。

　　而这个制程精度，即便完全抛开荷兰阿斯麦光刻机，我们也能独立完成全产业链国产制程覆盖，这便是我们敢于逐步淘汰美国芯片的底气。

　　此监管要求，既是对美国霸道行径的有力回击，也是我国产业自信的体现，同时还意味着国产 EUV 可能已取得实质性进展。

　　要知道，EUV 光刻机的技术核心为光源系统、物镜系统、双工件台三大部件，国内在这三个方向均有重大突破进展。

　　上海微电子公布了“极紫外辐射发生装置及光刻设备”专利，该专利聚焦 EUV 光源收集这一关键难题，提出了一种高效简便的带电粒子收集方法，能延长光刻机收集器镜使用寿命。与 ASML 相比，此方法可更好地减少收集器镜污染，标志着中国在 EUV 核心技术上取得了实质性进展。

　　而长春光机所和中科院控股企业北京中科科美在 EUV 光刻机的超高精度真空双工件台领域取得突破性进展。按照我国核心科技的报道习惯，突破性进展的意义大家可以自行想象。

　　2021 年 10 月 27 日，据中国新闻网报道，长春光机所在光刻机物镜系统上已达成 32 纳米精度。

　　时过三年，长春光机所和中科院控股的中科科美在 EUV 光刻机超高精度物镜系统方面取得显著进展，虽未透露具体精度，但肯定是在 32 纳米基础上迈出了一大步。

　　至于和国际顶级镜片制造商德国蔡司的差距，我们不得而知。当前蔡司物镜最高可提供 13 纳米精度，而我们在 32 纳米基础上已过去三年，且有中科院加持研发，想必差距很小了。

　　手机芯片和 5G 通信领域的少许高端芯片，且针对的是特定企业如华为和中兴。但鉴于美国芯片禁售的收紧，这依然关系到我国手机链上的众多企业的生存安全。

　　这两个领域的芯片制程最高已下沉到3 -5 纳米，这是目前国产芯片尚未能触及的精度。不过离 2027 年还有三年，我们有足够信心和耐心等待国产 EUV 的凯旋。

　　至于美国上月禁售的 GPU 超算芯片、人工智能芯片，严格来说卡不了脖子。因为主流的超算芯片如英伟达 H100、H200 都采用 7 纳米工艺，我们完全能够自研。

　　我们在这个领域需要加快GPU芯片设计工作即可满足自身需求，如算力创新和核心优质数据积累，当然这并非易事。

　　拜登政府这次是求锤得锤了，2027 年究竟谁淘汰谁还不一定呢。没有 EUV 研发突破的底气，想必我们不会主动提出淘汰美国芯片。

　　够用就好，向突破西方封锁的科学家们致敬[祈祷][赞][加油][火炬][加油加油]

　　芯片美国人留着自己享用吧，听说芯片吃了补人呢，美国人最好夹在三明治里面吃，胖人吃了减肥，瘦人吃了更苗条，瘾君子吃了能顶白面能过瘾

　　这就是人间不公！731部队细菌战犯逃回日本后，很多人在医院、学校等公立机构担任要职

　　731部队是日本军国主义者在第二次世界大战期间下令组建的细菌战秘密部队之一。1931年到1945年期间，731部队进行骇人听闻的人体实验和细菌战等，在中国犯下滔天罪行。数千名中国、苏联、朝鲜战俘和中国平民被用于人体细菌和毒气实验。

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